CORPORATEPROFILE

当社は、30年以上の長期にわたり、ナノ粒子および微粒子のノズル噴射による膜形成技術の研究開発を進めてきました。日本発のオリジナルなナノテク技術であるガスデポジション技術、エアロゾル化ガスデポジション技術の先駆者たる地位を固めるとともに長年の実績と人脈を基に、その技術発展に果敢に挑戦することを経営方針の一つと掲げ、品質安定な商品を顧客にタイムリーに供給すべく、当社は2004年に創業しました。エアロゾル化ガスデポジション装置をはじめ、ガスデポジション装置およびナノ粒子関連装置(カーボン系を含む)の事業を柱とし、それら装置の製造・販売を行なっています。幸いナノテクブームにも恵まれ、創業以来15期連続の黒字決算となっています。

ベンチャー企業にとって特許戦略は重要と考え、創業時に有償譲渡を受けたガスデポジション関連の10件の特許にて優位性を担保し事業化を始めました。メーカーとして装置の製造・販売を推し進めると共に、研究開発にも力を注いだ結果、現時点で、新たな国内外の特許出願が42件となっています。一例となりますが、2011年2月に終了したNEDO実用化開発の成果の一つであるエアロゾル化ガスデポジションのジルコニア成膜技術の米国特許が2012年に権利化され、続いてKorea、China、そして日本での同権利化も果たしています。2014年には荷電粒子のAGD成膜技術、2019年には関東経済産業局のサポイン事業の成果である新規ターゲット方式AGD成膜技術が、日本、米国、Korea、Chinaで権利化され、欧州で審査中となっています。

創業以来ナノ粒子を熟知した装置設計を行ない顧客の要求仕様に合わせ、多くのナノ粒子関連の設備納入を行なっています。また、顧客との技術開発、特に成膜技術の試作検討も国内外で積極的に進めさせていただいております。今後も最先端のナノ粒子関連装置の性能向上を目指し、技術開発に勤しむ所存でございます。今後も今までとかわりないご厚情、ご鞭撻のほどよろしくお願いいたします。