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世界をリードする乾式直接描画法によるナノ粒子成膜プロセス
その革新的な特許技術の全貌に迫る
ナノ粒子成膜プロセス・特許技術図解
真空中での微細な金属粒子の制御と、基板への精密な直接描画。このプロセスは、従来のウェットプロセスと異なり、環境負荷を低減しつつ、超高精度の電子回路形成を可能にします。
詳細な特許発明の業績は、以下のPDF資料よりご確認いただけます。
特許発明の業績資料（PDF）独自技術の革新性
01.
常温・緻密膜形成（AGD法）
エアロゾル化した微粒子を高速噴射することで、バルク体を超える高い絶縁特性を持つ緻密なセラミックス膜や結晶質の膜を室温かつ従来の10倍以上の高速で形成可能です。
02.
静電誘導プラズマ成膜（ターゲット方式AGD）
原料粉の静電気に起因するプラズマ発生に着目。プラズマ中におけるスパッタ現象を成膜の原因とする独自の新たなメカニズム（ターゲット方式）を発明・確立しています。
03.
強固なグローバル特許網の構築
革新的な成膜手法・粉体性状に関して、米国での10請求項目の早期一発承認をはじめ、日本国内、韓国、中国など世界各国で多数の関連特許を権利化し、確固たる技術優位性を証明しています。