GD装置シリーズ
ガスデポジション（GD）法を用いた微細描画・成膜装置。金属ナノ粒子の吹き付けによるダイレクトパターニングを実現します。
Compact Model
GD-A
コンパクトモデル
金属ナノ粒子の生成と成膜の基礎実験に最適。コンパクトな設計でAGD機構を標準装備したモデルです。
- ナノ粒子作製部RF Induction Heating: 5 kW
- ノズル径＆本数φ0.3mm, 1 nozzle
- 基材駆動X70mm×Y70mm×Z40mm θ90°
- その他AGD機構付属
High Power Model
GD-B
高出力モデル
30kWの高出力電源を搭載し、高純度Heガスリサイクルシステムを備えた高性能モデルです。
- ナノ粒子作製部RF Induction Heating: 30 kW
- ノズル径＆本数φ1mm, 1 nozzle
- 基材駆動X300mm×Y150mm×Z30mm θ90°
- その他高純度Heガスリサイクルシステム付き
Arc Heating Model
GD-C
アーク加熱モデル
アーク加熱方式を採用し、10kWの高出力で安定したナノ粒子生成を実現するモデルです。
- 高周波誘導加熱10kW
- ノズル径＆本数φ0.8mm, 1 nozzle
- 基材駆動80mm×80mm
- その他アーク加熱余熱付属
Dual Chamber Model
GD-D
デュアルチャンバーモデル
2式のナノ粒子作製部を搭載し、グローブ機構付きで有機ナノ粒子の機能膜形成に最適なモデルです。
- ナノ粒子作製部2式
- 高周波誘導加熱650℃まで
- 膜厚成型グローブ機構付き
- ノズル径＆本数φ0.8mm, 2 nozzles
- 基材駆動50mm×50mm
- 用途有機ナノ粒子の機能膜形成用
Dual Power Model
GD-E
デュアルパワーモデル
20kWと5kWの2系統の高周波誘導加熱部を搭載し、AGD機構を標準装備したモデルです。
- 高周波誘導加熱部2系統
- 高周波誘導加熱20kW, 5kW
- 基材駆動100mm×150mm
- その他AGD機構付属
Wide Area Model
GD-F
大面積成膜モデル
5kWの高周波誘導加熱部を搭載し、200mm×50mmの大面積基材駆動が可能なAGD機構付属モデルです。
- 高周波誘導加熱部1系統
- 高周波誘導加熱5kW
- ノズルφ0.8mm
- 基材駆動200mm×50mm
- その他AGD機構付属
Steam Source Model
GD-G
蒸発源付きモデル
10kWの高周波誘導加熱部と2系統の蒸発源を搭載し、100mm×100mmの基材駆動が可能なモデルです。
- 高周波誘導加熱部1系統
- 高周波誘導加熱10kW
- ノズルφ0.8mm
- 基材駆動100mm×100mm
- その他2系統の蒸発源あり