GD装置

代表的な装置仕様

○ナノ粒子作製部
 高周波誘導加熱;5kw
○膜形成部
ノズル径&本数;φ0.3mm、1本
基材駆動;X70mmxY70mmxZ40mm θ90度
○AGD機構付属

○ナノ粒子作製部
高周波誘導加熱;30kw
○膜形成部
ノズル径&本数;φ1mm、1本
基材駆動;X300mmxY150mmxZ30mm θ90度
○高純度Heガスリサイクルシステム付き


○高周波誘導加熱;10kw
○ノズル&本数;φ0.8mm、1本
○基材駆動;80mmx80mm
○アーク加熱系付属

○ナノ粒子作製部(2式)
 抵抗加熱;650℃まで           
○膜形成部(グローブ機構付き)
ノズル径&本数φ0.8mm、2本
 基材駆動;50mmx50mm
○有機ナノ粒子の機能膜形成用

○高周波誘導加熱;5kw
○ノズル;φ0.8m
○基材駆動;200mmx50mm
○AGD機構付属

○高周波誘導加熱;20kw、5kw
○基材駆動;100mmx150mm

○高周波誘導加熱;10kw
○ノズル;φ0.8mm
○基材駆動;100mmx100mm
○2系統の蒸発源あり