開催日：2018年10月16日（火）１７日(水)１８日(木)１９日（金）
時間：午前10時～午後5時
開催場所：幕張メッセホール４
展示内容：静電誘導プラズマ成膜装置技術
出展ゾーン〈㈲渕田ナノ技研〉
（小間番号；Ｓ002-06【主催者企画/特別テーマエリア】
〈サポインエクスポ会場〉



プレゼン：2018年10月17日（水）15：15～15：30
講演者：㈲渕田ナノ技研　渕田英嗣
開催場所：出展企業ビッチ
ステージ【ホール4（主催者企画/特別テーマエリア】
題目：静電誘導プラズマ成膜装置技術

粉体粉末冶金協会　2019年度秋季大会にて発表します
日程：2019年10月24日 (講演番号2-54A)
場所：名古屋大学　豊田講堂
題名：ナノ粒子が緻密に結合したアルミナ絶縁膜の形成（その３）

開催日：2018年2月14日（水）15日(木)16日(金)
時間：午前10時～午後5時
開催場所：東京ビックサイト　東5ホール
展示内容：エアロゾル化ガスデポジション成膜装置技術

出展ゾーン〈㈲渕田ナノ技研〉
（小間番号；Ｓ002-06【主催者企画/特別テーマエリア】
〈ベンチャーパビリオン【東ホール出入口付近】〉



プレゼン：2018年2月15日（木）11：40～11：55
講演者：㈲渕田ナノ技研　渕田英嗣
開催場所：シーズ＆ニーズセミナーＢ会場（東6ホール会場内）
題目：静電誘導プラズマ成膜装置技術（エアロゾル化ガスデポジション装置）

開催日：2017年11月29日（水）30日(木)12/1日(金)
時間：午前10時～午後5時
開催場所：東京ビックサイト　東7ホール
（小間番号；M-92【展示番号：③】


テーマ：静電誘導プラズマ場中スバッタ
【常温高速ナノ結晶構造セラミック成膜装置】
サブタイトル：正に帯電した粒子がプラズマを誘発し、セラミックの常温成膜を実現（日本発の技術）
◎戦略的基盤技術高度化支援事業（サポインエクス事業）事業化支援事業（販路拡大支援業務）

りそな中小企業振興財団と日刊工業新聞社主催、経済産業省中小企業庁後援の「第30回中小企業優秀新技術・新製品賞、一般部門」に渕田ナノ技研の装置が『奨励賞』に選ばれた。日刊工業新聞に掲載【写真】


搭載日時：日刊工業新聞　17項
表題：静電誘導プラズマセラミックス成膜＝渕田ナノ技研
贈賞式：4月17日に、ホテルグランドパレスで行われた

第43回発明大賞の[考案功労賞]を有限会社渕田ナノ技研が受賞した、日刊工業新聞に掲載

日時：2018年3月8日
場所：日刊工業新聞　30項【PDF】
表彰式：3月12日に、東京都港区の明治記念館で行われる

掲載記事につてはこちらをクリックしてください。

NEDOおよび(株)矢野経済研究所が主催

NEDOベンチャービジネスマッチング会に渕田ナノ技研が参加し、プレゼン、個別面談および展示説明を行った。
１）日時：平成 31年 2月6日（水）13時 ～ 17時
２）場所：新大阪ブリックビル
① ベンチャー企業プレゼンテーション

有限会社渕田ナノ技研　（15:30 - 15:45）
② 個別面談
③ 説明パネル、展示説明

NEDOおよび(株)矢野経済研究所が主催

NEDOベンチャービジネスマッチング会に渕田ナノ技研が参加し、プレゼン、個別面談および展示説明を行った。
１）日時：平成 31年 1月 25日（金） 13時 ～ 18時
２）場所：東京・大手町ファーストスクエアカンファレンス
① ベンチャー企業プレゼンテーション　　

有限会社渕田ナノ技研　（13:25 - 13:40）
② 個別面談
③ 説明パネル、展示説明

一般財団法人機械振興協会の「第53回機械振興賞、審査委員長特別賞」を渕田ナノ技研の新型エアロゾルセラミックス常温成膜装置で受賞した
贈賞式：2019年2月19日に、東京プリンスホテルで行われた
　　　　［表彰式写真◎前列右から2人目：渕田社長］

日本セラミックス協会にて特別講演を行いました。
サテライト №05 焼結の科学と技術
開催日時 2019 年 3 月 24 日（日）
会場；工学院大学新宿キャンパス、7F　A-0762（F会場）
（講演内容；ＰＤＦ）
9:35-10:35 「エアロゾルセラミックス常温成膜技術の進展」 渕田 英嗣 （渕田ナノ技研）

【2019年1月30日（水）～2月1日（金）】の3日間、
東京ビックサイトで開催される「nano tech 2019」の展示会へ、
出展する運びとなりました。

静電誘導プラズマ成膜装置技術（日本発のセラミックスの常温成膜）のサンプル展示をいたします。


展示会　nano tech 2019
会場　　東京ビックサイト　東5ホール
　　　　（江東区有明３－１１－１）
日時　　2019年1月30日（水曜日）午前10時～17時
1月31日（木曜日）午前10時～17時
　　　 　2月01日（金曜日）午前10時～17時

一般財団法人機械振興協会の「第53回機械振興賞、審査委員長特別賞」に
渕田ナノ技研が選ばれた
掲載日時：2019年3月13日
場所：日刊工業新聞　31頁

渕田ナノ技研 渕田社長　報道ニッポンに掲載

2005年8月
経済雑誌「報道ニッポン」に渕田ナノ技研が取り上げられる
創業間もないナノテク企業として　【PDF】

NEDO　開発助成事業　始まる

NEDO平成21年度イノベーション実用化推進事業
テーマ名；エアロゾル化ガスデポジションによるセラミックス成膜の実用化開発
研究開発期間；平成21年（2009年）8月から2011年2月

イノベーション・ジャパン2012　展示会に出展しました
開催日時：平成24年（2012年）9月27日（木）、28日（金）
開催場所：東京国際フォーラム　B2 F展示ホール（小間番号：S-31）
［展示説明の様子（写真）］

プレゼン：２０１2年9月２7日（木）
題目：エアロル化ガスデポジション法を用いたセラミックスの常温・高速成膜装置

日刊工業新聞にエアロゾル化ガスデポジション装置が掲載される
日時：2012年11月9日
場所：日刊工業新聞　７頁
内容：常温でセラミックス成膜実現　渕田ナノ技研が量産機を開発　［PDF］

日刊工業新聞に受賞記事が掲載
掲載日；2013年3月26日
場所：日刊工業新聞　16頁
＜第17回千葉県ベンチャー企業経営者表彰＞
ひまわりベンチャー育成基金賞を
「渕田ナノ技研　社長　渕田英嗣」が受賞した　　［PDF］

イノベーション・ジャパン2013　展示会に出展しました
開催日時：平成25年（2013年）8月29日（木）、30日（金）
開催場所：東京ビックサイト　西1ホール（小間番号：ND-46）
［展示説明の様子（写真）］

プレゼン：２０１３年８月３０日（木）１２：２５～１２：４５
題目：ナノ構造セラミックスの常温・高速成膜装置

日本セラミックス協会にて講演を行いました。
『第32回エレクトロセラミックスセミナー』
開催日時 2013年11月29日
会場；東京大学　先端科学技術研究センター（4号館）
題名；「ナノ粒子成膜装置ビジネス　－構造材料から電子デバイス膜まで」
（渕田ナノ技研　取締役社長　渕田 英嗣）

関東経済産業局　サポイン事業
テーマ名；高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術の研究開発
研究開発期間；平成26年（2014年）8月から2017年3月
事業管理機関；(株)つくば研究支援センター
研究実施機関；(有)渕田ナノ技研、国立大学法人筑波大学

イノベーション・ジャパン2014　展示会に出展しました
開催日時：2014年9月11日（木）、12日（金）
開催場所：東京ビックサイト　東1ホール（小間番号：IN-01）
［展示説明の様子（写真）］

プレゼン：ナノ構造セラミックスの常温・高速成膜装置

ナノテク2015に出展しました
日程：2015年1月２８日から３０日
場所：東京ビックサイト　ナノテクベンチャーパビリオン
＊新規ＡＧＤ技術のパネル展示と市場調査（サポイン事業）
［展示説明の様子（写真）］

応用物理学会　発表　(2015 春)

第62回応用物理学会春季学術講演会にて発表しました
日程：2015年3月13日（講演番号13p-D10-9）
場所：東海大学　湘南キャンパス
題名：高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術

日刊工業新聞に静電誘導プラズマ成膜技術が掲載される
日時：2015年3月18日
場所：日刊工業新聞　２７頁
内容：常温で絶縁膜高速生成　静電誘導プラズマ技術　渕田ナノ技研が開発　［PDF］

日本セラミックス協会　発表　(2015年 年会)

日本セラミックス協会　2015年 年会にて発表しました
日程：2015年3月19日（講演番号２L34）
場所：岡山大学　津島キャンパス
題名：新規の静電誘導プラズマ成膜装置によるアルミナ絶縁膜の形成

2015年粉体粉末冶金協会賞　渕田ナノ技研が受賞
受賞日；2015年5月26日
授賞式；早稲田大学 国際会議場
受賞名；エアロゾル化ガスデポジションによる膜形成技術の進展
［授賞式集合写真］

粉体粉末冶金協会　平成27年度春季大会　協会賞(技術進歩賞)受賞記念講演を行う
日程：2015年5月27日 (講演番号2-43)
場所：早稲田大学 国際会議場
題名：エアロゾル化ガスデポジションによる膜形成技術の進展

粉体粉末冶金協会　平成27年度春季大会にて発表しました
日程：2015年5月27日 (講演番号2-44)
場所：早稲田大学 国際会議場
題名：ナノ粒子が緻密に結合したアルミナ絶縁膜の形成

「第22回無機高分子クローズドセミナー」にて、招待講演する

　生活を豊かにするハイブリッド材料
～生活密着型高機能シリコン材料、微粒子、分離膜、その最新技術～
平成27年（2015年）12月4日（金)　
東京理科大学森戸記念館第1フォーラム

＜14:20～15:40＞
４）ナノ粒子が緻密に結合したセラミックスの常温・高速成膜技術
　　（エアロゾル化ガスデポジション装置）
　　　　　　　　　　渕田ナノ技研　　渕田　英嗣

nano tech 2016 に出展しました
日時：2016年1月27日(木)～29日(金)
場所：東京ビックサイト　東６ホール
【ベンチャーパビリオン、小間番号：6N-25-06】
［展示説明の様子（写真）］

テーマ名：高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術
サブタイトル：静電荷電が誘起するスパッタ現象による常温成膜技術
　　　　　　　（新規エアロゾル化ガスデポジション装置）
　　－関東経済産業局、戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)の補助に基づく－

粉体粉末冶金協会　平成28年度春季大会にて発表しました
日程：2016年5月24日 (講演番号3-21A)
場所：京都工芸繊維大学
題名：ナノ粒子が緻密に結合したアルミナ絶縁膜の形成（その２）

イノベーションジャパン2016　展示会に出展しました
開催日時：2016年8月25日（木）（9:30～17:30）、26日（金）（10:00～17:00）
開催場所：東京ビックサイト　西１ホール
出展ゾーン　＜（有）渕田ナノ技研＞
　NEDOゾーン；マテリアル・ナノテクノロジー（小間番号：MN-03）
［展示説明の様子（写真）］

併設のプレゼン：２０１６年８月２５日（木）午前10:45～11:00
　　　　　　　　（ＮＥＤＯプレゼンスペースＢ）
題目：常温で緻密なナノ構造セラミックス膜を作る技術

「粉体および粉末冶金」　論文掲載（2016年10月）

「粉体および粉末冶金」第63巻第11号、(2016) p937-946.
粉体粉末冶金協会　受賞記念講演　平成26年度技術進歩賞
題名：エアロゾル化ガスデポジションによる膜形成技術の進展
　－歴史、成膜原理そして実用化研究－　［PDF］

nano tech 2017に出展しました
日時：2017年２月15日（水）～17日（金）
場所：東京ビックサイト　東５ホール
【ベンチャーパビリオン、小間番号：5A-03-10】
［展示説明の様子（写真）］

テーマ名：新規の静電誘導プラズマ成膜装置技術
サブタイトル：セラミックス粉の常温成膜技術、静電誘導プラズマ場のスパッタ膜
　　　　　　　（新規エアロゾル化ガスデポジション装置）
　　－関東経済産業局、戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)の補助に基づく－

NEDOベンチャー企業等による新エネルギー技術革新支援事業
ベンチャー企業等による新エネルギー技術革新支援事業（燃料電池・蓄電池）
テーマ名；静電気誘導プラズマ成膜装置のセラミックス粉連続安定供給エアロゾル化機構の技術開発
研究開発期間；平成29年度（2017年）1月から2018年11月

大阪府立大学　同窓会講演会にて招待講演

開催日時 2004年10月2日
会場；大阪府立大学　（渕田社長の母校）
題名；ナノ粒子を用いた乾式成膜法について
（渕田ナノ技研　取締役社長　渕田 英嗣）

神奈川県産業技術総合研究所　研究会・招待講演

開催日時 2004年10月22日
会場；神奈川県産業技術総合研究所　会議室
題名；ナノ粒子を用いた乾式直接描画装置
（渕田ナノ技研　取締役社長　渕田 英嗣）

島根大学　S－ナノテクプロジェクト研究会にて招待講演を行う
開催日時 2005年3月8日
会場；島根大学
題名；ナノ粒子を用いたガスデポジション成膜装置
（渕田ナノ技研　取締役社長　渕田 英嗣）

「ナノ粒子研究会」5周年記念（第30回）公開講演会にて、講演
開催日時 2005年3月11日
会場；アイビーホール青学会館
題名；ナノ粒子を用いたガスデポジション成膜装置

日本セラミックス協会　2011年年会にて３件発表

2011年　日本セラミックス協会年会にて、講演を行う
開催日時 2011年3月18日
会場；静岡大学
1．(3M27)エアロゾル化ガスデポジション装置によるジルコニア膜の形成
2．(3M28)電融法ジルコニア粉を用いたエアロゾル化ガスデポジション法によるジルコニア膜の形成
3．(3M29)エアロゾル化ガスデポジション法によるジルコニア膜の高温相の出現

粉体粉末冶金協会　平成25年度春季大会にて２件発表

粉体粉末冶金協会　平成25年度春季大会　研究発表講演を行う
開催日時 2013年5月27日
会場；早稲田大学　国際会議場
1．(3-02A)エアロゾル化ガスデポジション法によるジルコニア膜の形成（荷電粒子の噴射による）
2．(3-03A)エアロゾル化ガスデポジション－常温成膜において出現するジルコニア高温相の熱安定性

阿南高専にて、特別講演

阿南高専助成会　ACTフェローシップ主催
「平成25年度第1回ACTフェローシップ特別講演会」にて、講演
開催日時 2013年6月27日
会場；阿南工業高等専門学校
題名；ガス搬送されたナノ粒子あるいは微粒子のノズル噴射による膜形成技術について

パワーマッチング　スタートアップに参加します
会期：2019年10月28日（月）、29日（火）、30日（水）
会場：虎ノ門ヒルズ
主催：イノベーションリーダーズサミット実行委員会
後援：経済産業省

渕田ナノ技研はILS2019パワーマッチングにおいて、大手からの人気上位100社に贈る　「ILS TOP100 STARTUPS」に選ばれました。

NEDOビジネスマッチングに参加しています
掲載内容：研究成果・技術の特徴、マッチング希望、問い合わせ先等
掲載期間：2020年9月28日（月）～2020年11月30日（月）
URL:<https://www.nedo.go.jp/events/report/ij2020businessmatching.html>　

掲載企業一覧－１ 技術分野　https://www.nedo.go.jp/content/100923072.pdf
渕田ナノ技研　https://www.nedo.go.jp/content/100922803.pdf

INNOVATION LEADERS SUMMIT 2022に参加します

アジア最大のオープンイノベーションマッチングイベント
パワーマッチングに参加します

日時・場所 ★対面商談2022年2月16日～18日
会場：虎ノ門ヒルズ
★オンライン商談2022年2月1日～15日
主催：イノベーションリーダーズサミット実行委員会
ILS公式サイト https://ils.tokyo/
後援：経済産業省など

ジルコニア膜のAGD成膜方法のヨーロッパ特許登録
［添付特許証_PDF］
ヨーロッパの特許登録（２４２８５９２）が完了しました。
これにより、日本、米国、韓国、中国に引き続き、独国、英国、仏国において、
ジルコニア膜のAGD成膜方法の特許が登録されました。

ターゲット方式エアロゾル化ガスデポジション成膜のヨーロッパ特許登録
［添付特許証_PDF］
ヨーロッパの特許登録（２９６０３５９）が完了しました。
これにより、日本、米国、韓国、中国に引き続き、独国、英国、仏国において、
ターゲット方式AGDの特許が登録されました。

【PDF】

Fig. 2 Illustrations of nozzle, target, mask and substrate at deposition site arrangement. Geometry of target type AGD with mask.

Fig. 5 Volt/thickness-ampere characteristics of T-AGD alumina films at 105 deg. target angle with mask (A) 99 deg. angle.

※詳細は以下のリンク先をクリック

URL: イノベーション・ジャパン2021 ～ビジネスマッチング
出展者一覧 イノベーション・ジャパン2021 ～ビジネスマッチング
渕田ナノ技研　イノベーション・ジャパン2021 ～ビジネスマッチング

「戦略的基盤技術高度化支援事業（サポイン事業）成果展示・商談会」

（有）渕田ナノ技研は、中小企業　テクノロジー展に参加します
会期：２０２１年１２月８日（水）～１０日（金）
会場：東京ビックサイト　東８ホール
URL: <https://www.sapoin-tenjikai.go.jp>
時間：１２／８（水）１１：００～１７：００
　　　１２／９（木）１０：００～１７：００
　　　１２／１０（金）１０：００～１６：００
入場料：無料（事前申込制）